China mizează pe Xizhi, prima sa mașină de litografie e-beam, pentru a evita restricțiile SUA

China a prezentat Xizhi, prima sa mașină de litografie e-beam (litografie cu fascicul de electroni) construită local, capabilă să graveze circuite de 8 nanometri. Potrivit South China Morning Post, echipamentul a fost dezvoltat la Universitatea Zhejiang din Hangzhou și reprezintă o încercare de a reduce dependența de tehnologiile occidentale, în special de sistemele EUV fabricate exclusiv de compania olandeză ASML.

De ce e importantă litografia în procesul de fabricare a cipurilor

Pentru a înțelege impactul, trebuie să înțelegem cum sunt fabricate cipurile. Practic, litografia înseamnă procesul de „imprimare a unor desene” extrem de fine pe plachetele de siliciu, acele discuri care sunt baza fiecărui procesor. Aceste modele de circuite, transferate strat după strat, devin baza pe care se formează tranzistorii și conexiunile lor, până când ia naștere cipul complet.

Dimensiunea exprimată în nanometri (nm), folosită în industria semiconductorilor, desemnează în prezent mai degrabă o generație tehnologică decât o măsură fizică exactă. În termeni simpli, ea reflectă cât de mici pot fi realizați tranzistorii și cât de aproape pot fi plasați unii de alții. Astfel, la 7 nm un cip poate avea aproximativ 100-200 de milioane de tranzistori pe milimetru pătrat, iar la tehnologiile mai avansate de 2 nm densitatea ajunge la peste 300 de milioane pe aceeași suprafață.

În prezent, fabricile companiilor TSMC sau Samsung folosesc litografie EUV (Extreme Ultraviolet) pentru a produce cipuri de 2 nm, tehnologie la care China nu are acces din cauza sancțiunilor americane.

Litografie e-beam vs. EUV, ce le diferențiază

Noua mașină Xizhi folosește litografie e-beam, adică în loc de raze ultraviolete extrem de scurte (EUV), se folosesc fascicule de electroni focalizate. Avantajul este precizia: Xizhi poate grava linii de până la 8 nm, cu o acuratețe de poziționare de 0,6 nm, respectând standardele internaționale.

Dezavantajul principal este viteza de „imprimare”. Litografia e-beam funcționează foarte bine pentru testare și prototipuri, dar nu poate atinge producția de masă pe care o permit mașinile DUV și, mai ales, cele EUV. Cu alte cuvinte, e o soluție utilă pentru cercetare și validare, dar nu pentru fabricarea milioanelor de cipuri care sunt necesare în industria smartphone-urilor sau pentru AI.

Context geopolitic

Acest anunț trebuie privit în contextul mai larg al războiului comercial dintre SUA și China. Washingtonul, împreună cu Olanda și Japonia, a blocat accesul Beijingului la tehnologia EUV, considerată „arma secretă” a progresului în semiconductori. Pentru China, fiecare pas în dezvoltarea locală a echipamentelor de litografie înseamnă mai multă independență și mai puțină vulnerabilitate la sancțiuni.

Un exemplu recent este Huawei, care ar testa deja o mașină EUV proprie, cu planuri de producție pilot încă de anul acesta. Dacă aceste proiecte reușesc, China ar putea reveni în cursa globală pentru cipuri avansate, unde rivali ca Apple, Qualcomm și Nvidia domină în prezent.

Xizhi nu va înlocui în curând EUV, însă pentru cercetătorii chinezi faptul că au reușit să construiască o mașină performantă cu litografie e-beam este o victorie simbolică și tehnologică. Mai ales într-un climat geopolitic tensionat, acest pas arată determinarea Beijingului de a-și consolida propria industrie de cipuri și de a reduce decalajul față de liderii globali.